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Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Langue AnglaisAnglais
Livre Livre relié
Livre Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke
Code Libristo: 43909170
Éditeurs Taylor & Francis Ltd, décembre 2023
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit... Description détaillée
? points 606 b
250.30 €
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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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Ewa Kasp
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À propos du livre

Nom complet Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Auteur Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
Langue Anglais
Reliure Livre - Livre relié
Date de parution 2023
Nombre de pages 496
EAN 9781032386706
Code Libristo 43909170
Éditeurs Taylor & Francis Ltd
Poids 662
Dimensions 156 x 234

Catégories

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